Влияние концентрации поверхностно-активного вещества на динамику всплытия кластера пузырьков

Авторы автор Чуркин Р. А. (Сотрудник), автор Усанина А. С. (Сотрудник), автор Басалаев С. А. (Сотрудник), автор Архипов В. А. (Сотрудник)
Тип Статья в журнале
Год 2023
Язык русский
Отдел Физико-технический факультет, Обособленное структурное подразделение "Научно-исследовательский институт прикладной математики и механики Томского государственного университета", Химический факультет, каф. динамики полета (ФТФ), Обособленное структурное подразделение "Научно-исследовательский институт прикладной математики и механики Томского государственного университета", научно-образовательный центр «Перспективные материалы и технологии в недропользовании» (ХФ)
Библиографическая запись Архипов В.А., Басалаев С.А., Усанина А.С., Чуркин Р.А. Влияние концентрации поверхностно-активного вещества на динамику всплытия кластера пузырьков // Письма в Журнал технической физики. 2023. Т. 49, № 18. С. 33‒36. DOI: 10.21883/PJTF.2023.18.56175.19642
Направление науки
УДК