Properties of Gallium Oxide Films Obtained by HF-Magnetron Sputtering

Авторы автор Лыгденова Т. З. (Студент), автор Калыгина В. М. (Сотрудник), автор Новиков В. А. (Сотрудник), автор Толбанов О. П. (Сотрудник), автор Тяжев А. В. (Сотрудник), автор Прудаев И. А. (Сотрудник)
Тип Статья в журнале
Год 2018
Язык английский
Отдел Физический факультет, Радиофизический факультет, Научное управление, каф. физики полупроводников (ФФ), каф. полупроводниковой электроники (РФФ), лаб. наноэлектроники и нанофотоники (НУ)
Библиографическая запись Properties of Gallium Oxide Films Obtained by HF-Magnetron Sputtering / Lygdenova T.Z., Kalygina V.M., Novikov V.A., Prudaev I.A. [et al] // Russian Physics Journal. 2018. Vol. 60, № 11. P. 1911‒1916. DOI: 10.1007/s11182-018-1302-0
Направление науки
УДК