Conduction in titanium dioxide films and metal-TiO2-Si structures

Авторы автор Калыгина В. М. (Сотрудник), автор Егорова И. М. (Студент), автор Прудаев И. А. (Сотрудник), автор Толбанов О. П. (Сотрудник)
Тип Статья в журнале
Год 2016
Язык английский
Отдел Радиофизический факультет, каф. полупроводниковой электроники (РФФ)
Библиографическая запись Kalygina V.M., Egorova I.M., Prudaev I.A., Tolbanov O.P. Conduction in titanium dioxide films and metal-TiO2-Si structures //Semiconductors. 2016. Vol. 50, № 8. P. 1015-1019.
Направление науки
УДК