ТГУ.Сотрудники
Effect of bias voltage on coating homogeneity in plasma immersion ion implantation
| Авторы | автор Слабодчиков В. А. (Сотрудник), автор Борисов Д. П. (Сотрудник), автор Кузнецов В. М. (Сотрудник) |
| Тип | Статья в журнале |
| Год | 2016 |
| Язык | английский |
| Отдел | Физический факультет, каф. физики металлов (ФФ) |
| Библиографическая запись | Vladimir A. Slabodchikov, Dmitry P. Borisov, Vladimir M. Kuznetsov. Effect of bias voltage on coating homogeneity in plasma immersion ion implantation //AIP Conference Proceedings. 2016. Vol. 1783. P. 020209-1-020209-4. |
| Направление науки | |
| УДК |
Учебная деятельность
Научная деятельность
Конкурсная деятельность