Диффузия примесей и собственных точечных дефектов в арсениде галлия

Авторы автор Толбанов О. П. (Сотрудник), автор Хлудков С. С. (Сотрудник), автор Ивонин И. В. (Сотрудник), автор Прудаев И. А. (Сотрудник), научный редактор Ивонин И. В. (Сотрудник)
Тип Монография
Год 2022
Язык русский
Отдел Физический факультет, Радиофизический факультет, Обособленное структурное подразделение "Сибирский физико-технический институт", Центр исследований и разработок "Перспективные технологии в микроэлектронике", каф. физики полупроводников (ФФ), каф. полупроводниковой электроники (РФФ), лаб. физики полупроводниковых наноструктур (ЛФПН) (ОСП "СФТИ ТГУ"), Центр исследований и разработок "Перспективные технологии в микроэлектронике"
Библиографическая запись Хлудков С.С., Прудаев И.А., Толбанов О.П., Ивонин И.В. Диффузия примесей и собственных точечных дефектов в арсениде галлия / науч. ред.: И.В. Ивонин. Томск: Изд-во Том. ун-та, 2022. 248 с.
Направление науки
УДК