Диффузия примесей и собственных точечных дефектов в арсениде галлия
Авторы | автор Толбанов О. П. (Сотрудник), автор Хлудков С. С. (Сотрудник), автор Ивонин И. В. (Сотрудник), автор Прудаев И. А. (Сотрудник), научный редактор Ивонин И. В. (Сотрудник) |
Тип | Монография |
Год | 2022 |
Язык | русский |
Отдел | Физический факультет, Радиофизический факультет, Обособленное структурное подразделение "Сибирский физико-технический институт", Центр исследований и разработок "Перспективные технологии в микроэлектронике", каф. физики полупроводников (ФФ), каф. полупроводниковой электроники (РФФ), лаб. физики полупроводниковых наноструктур (ЛФПН) (ОСП "СФТИ ТГУ"), Центр исследований и разработок "Перспективные технологии в микроэлектронике" |
Библиографическая запись | Хлудков С.С., Прудаев И.А., Толбанов О.П., Ивонин И.В. Диффузия примесей и собственных точечных дефектов в арсениде галлия / науч. ред.: И.В. Ивонин. Томск: Изд-во Том. ун-та, 2022. 248 с. |
Направление науки | |
УДК |
Учебная деятельность
Научная деятельность
Конкурсная деятельность