The relaxation of electrophysical properties HgCdTe epitaxial films affected by plasma of high frequency nanosecond volume discharge in atmospheric-pressure air

Авторы автор Коротаев А. Г. (Сотрудник), автор Григорьев Д. В. (Сотрудник), автор Войцеховский А. В. (Сотрудник), автор Лозовой К. А. (Сотрудник), автор Тарасенко В. Ф. (Сотрудник другой организации), автор Рипенко В. С. (Сотрудник другой организации), автор Шулепов М. А. (Сотрудник другой организации), автор Ерофеев М. В. (Сотрудник другой организации), автор Якушев М. В. (Сотрудник другой организации), автор Дворецкий С. А. (Сотрудник другой организации), автор Михайлов Н. Н. (Сотрудник другой организации), автор Варавин В. С. (Сотрудник другой организации)
Тип Статья в журнале
Год 2020
Язык английский
Отдел Радиофизический факультет, Научное управление, Обособленное структурное подразделение "Сибирский физико-технический институт", каф. квантовой электроники и фотоники (РФФ), лаб. наноэлектроники и нанофотоники (НУ), научно образовательный центр «Функциональные материалы радио и оптоэлектроники» (ОСП "СФТИ ТГУ"), деканат радиофизического факультета (РФФ)
Библиографическая запись The relaxation of electrophysical properties HgCdTe epitaxial films affected by plasma of high frequency nanosecond volume discharge in atmospheric-pressure air / Korotaev A.G., Grigoryev D.V., Voitsekhovskii A.V, Lozovoy K.A. [et al] // Surface and Coatings Technology. 2020. Vol. 387. P. 125527-1‒125527-5. DOI: 10.1016/j.surfcoat.2020.125527
Направление науки
УДК