Influence of near-surface graded-gap layers on electrical characteristics of MIS-structures based on MBE grown HgCdTe

Авторы автор Войцеховский А. В. (Сотрудник), автор Несмелов С. Н. (Сотрудник), автор Дзядух С. М. (Сотрудник), автор Варавин В. С. (Сотрудник другой организации), автор Дворецкий С. А. (Сотрудник другой организации), автор Михайлов Н. Н. (Сотрудник другой организации), автор Сидоров Ю. Г. (Сотрудник другой организации), автор Якушев М. В. (Сотрудник другой организации)
Тип Статья в журнале
Год 2010
Язык английский
Отдел Радиофизический факультет, Обособленное структурное подразделение "Сибирский физико-технический институт", каф. квантовой электроники и фотоники (РФФ), научно образовательный центр «Функциональные материалы радио и оптоэлектроники» (ОСП "СФТИ ТГУ")
Библиографическая запись Voitsekhovskii A.V., Nesmelov S.N., Dzyadux S.M., Varavin V.S., Dvoretskii S.A., Mikhailov N.N., Sidorov Yu.G., Yakushev M.V. Influence of near-surface graded-gap layers on electrical characteristics of MIS-structures based on MBE grown HgCdTe //Opto-Electronics Review. 2010. Vol. 18, № 3. P. 259-262.
Направление науки
УДК