Ионная имплантация в гетероэпитаксиальные слои и кристаллы p-CdxHg1-xTe

Авторы	автор Войцеховский А. В. (Сотрудник), автор Талипов Н. Х. (Сотрудник другой организации)
Тип	Статья в журнале
Год	2011
Язык	русский
Отдел	Радиофизический факультет, каф. квантовой электроники и фотоники (РФФ)
Библиографическая запись	Войцеховский А.В., Талипов Н.Х. Ионная имплантация в гетероэпитаксиальные слои и кристаллы p-CdxHg1-xTe //Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники. 2011. № 4. С. 32-41.
Направление науки
УДК	621.315.592

Учебная деятельность

Научная деятельность

Конкурсная деятельность